Propiedades estructurales y morfológicas de películas delgadas de uc-Si:H

Autores
Dussan, A.; Koropecki, Roberto Roman
Año de publicación
2007
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Una serie de películas delgadas de silicio microcristalino dopadas con Boro (µc-Si:H (B)) fueron depositadas por el método de deposición química en fase de vapor asistida por plasma (PECVD). Las muestras fueron dopas con Boro. La microestructura y morfología de las muestras fue analizada por microscopía de fuerza atómica (AFM), difracción de rayos X y espectroscopía Raman. Se observó un incremento tanto en la fracción de volumen cristalina como en el tamaño de grano a medida que se incrementó la concentración de Boro en las muestras. Las películas de silicio microcristalino dopadas con Boro presentaron una orientación cristalográfica preferencial en el plano (220).
A series of films boron doped microcrystalline silicon (µc-Si:H (B)) was deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The samples were Boron doped. The microstructure and morphology of samples were analyzed by atomic force microscopy (AFM), X-ray diffraction (XRD), and Raman spectroscopy. Trends of increasing crystalline volume fraction and grain size were observed with increasing boron concentration in the samples. The doped microcrystalline silicon films showed a preferential crystallographic orientation in the plane (220).
Fil: Dussan, A.. Universidad Nacional de Colombia; Colombia
Fil: Koropecki, Roberto Roman. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
Materia
Silicio Microcristalino
Película Delgada
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
Repositorio
CONICET Digital (CONICET)
Institución
Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
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