Caracterización del proceso de fabricación de macroporos sobre sustrato de silicio por método electroquímico
- Autores
- Der, Manuel; Olmos Carreno, Carol Maritza; Rosero Yánez, Gustavo Ivan; Santizo Huerta, Itzel Erándeni; Fernandez, Tamara; Dieguez, Maria; Sacco, Francisco; Granell, Pablo Nicolás; Golmar, Federico; Lerner, Betiana; Lasorsa, Carlos Alberto; Perez, Maximiliano Sebastian
- Año de publicación
- 2018
- Idioma
- español castellano
- Tipo de recurso
- artículo
- Estado
- versión publicada
- Descripción
- En el presente trabajo se estudió el proceso de fabricación de una serie de macroporos sobre obleas de silicio cristalino mediante la técnica wet etching. Se evaluó la incidencia de distintos factores como el voltaje, la temperatura y el agente de frenado sobre las características específicas de la formación. A partir de los datos obtenidos de la evolución de las corrientes fue posible estandarizar el proceso y determinar el momento de formación del poro, esencial en cuanto a la disponibilidad de un método compatible con las exigencias de la industria. Finalmente, se concluyó que para la fabricación de poros en forma controlada, las condiciones óptimas corresponden a una temperatura de 84 ˚C, HCl como agente de frenado y voltajes de 0,1V, 0,5V y 1V respectivamente. Los anteriores resultados son de gran importancia en los campos de la medicina y la biología en relación a la utilidad de los poros como dispositivos de sensado.
In the present work, the fabrication process of a set of micropores on crystalline silicon wafers manufactured through wet etching technique was studied. The influence of different control factors such as voltage, temperature and braking agent on the specific characteristics of formation was evaluated. An exhaustive analysis of the evolution of electric currents during the fabrication made possible to standardize the process and determine the pore-formation time, essential feature considering the exigent requirements of industry. Finally, it was concluded that optimum conditions for a controlled fabrication of pores correspond to a temperature of 84 ˚C, HCl as a braking agent and voltages of 0,1V, 0,5V and 1V respectively. The above results are of great importance in different fields, such as biology or medicine, in relation to the utility of pores as sensing devices.
Fil: Der, Manuel. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales; Argentina
Fil: Olmos Carreno, Carol Maritza. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Haedo. Grupo de Ingeniería de Recubrimientos Especiales y Nanotecnología; Argentina
Fil: Rosero Yánez, Gustavo Ivan. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Haedo. Grupo de Ingeniería de Recubrimientos Especiales y Nanotecnología; Argentina
Fil: Santizo Huerta, Itzel Erándeni. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Haedo. Grupo de Ingeniería de Recubrimientos Especiales y Nanotecnología; Argentina
Fil: Fernandez, Tamara. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Haedo. Grupo de Ingeniería de Recubrimientos Especiales y Nanotecnología; Argentina
Fil: Dieguez, Maria. Instituto Nacional de Tecnología Agropecuaria. Centro de Investigación en Ciencias Veterinarias y Agronómicas. Instituto de Agrobiotecnología y Biología Molecular. Grupo Vinculado Instituto de Genética "Ewald A. Favret" al Iabimo | Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Parque Centenario. Instituto de Agrobiotecnología y Biología Molecular. Grupo Vinculado Instituto de Genética "Ewald A. Favret" al Iabimo; Argentina
Fil: Sacco, Francisco. Instituto Nacional de Tecnología Agropecuaria. Centro de Investigación en Ciencias Veterinarias y Agronómicas. Instituto de Agrobiotecnología y Biología Molecular. Grupo Vinculado Instituto de Genética "Ewald A. Favret" al Iabimo | Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Parque Centenario. Instituto de Agrobiotecnología y Biología Molecular. Grupo Vinculado Instituto de Genética "Ewald A. Favret" al Iabimo; Argentina
Fil: Granell, Pablo Nicolás. Instituto Nacional de Tecnología Industrial; Argentina
Fil: Golmar, Federico. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Instituto Nacional de Tecnología Industrial; Argentina
Fil: Lerner, Betiana. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Haedo. Grupo de Ingeniería de Recubrimientos Especiales y Nanotecnología; Argentina
Fil: Lasorsa, Carlos Alberto. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Haedo. Grupo de Ingeniería de Recubrimientos Especiales y Nanotecnología; Argentina
Fil: Perez, Maximiliano Sebastian. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Haedo. Grupo de Ingeniería de Recubrimientos Especiales y Nanotecnología; Argentina - Materia
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BIOLOGICAL SENSORS
MACROPORES
SILICON
WET ETCHING - Nivel de accesibilidad
- acceso abierto
- Condiciones de uso
- https://creativecommons.org/licenses/by/2.5/ar/
- Repositorio
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- Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
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A partir de los datos obtenidos de la evolución de las corrientes fue posible estandarizar el proceso y determinar el momento de formación del poro, esencial en cuanto a la disponibilidad de un método compatible con las exigencias de la industria. Finalmente, se concluyó que para la fabricación de poros en forma controlada, las condiciones óptimas corresponden a una temperatura de 84 ˚C, HCl como agente de frenado y voltajes de 0,1V, 0,5V y 1V respectivamente. Los anteriores resultados son de gran importancia en los campos de la medicina y la biología en relación a la utilidad de los poros como dispositivos de sensado.In the present work, the fabrication process of a set of micropores on crystalline silicon wafers manufactured through wet etching technique was studied. The influence of different control factors such as voltage, temperature and braking agent on the specific characteristics of formation was evaluated. 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