Influencia de la longitud de onda de irradiación en la fotodisociación del SiF₄

Autores
Alcaraz, Alicia Noemí; Codnia, Jorge; Azcárate, María Laura
Año de publicación
2003
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
En el presente trabajo se estudió la influencia de la longitud de onda de irradiación en la disociación multifotónica IR (DMFIR) del SiF₄. Para ello se irradiaron mezclas de SiF₄ e H₂ con distintas líneas vibro-rotacionales de la banda de emisión en 9,6 micrometros de un láser de CO₂ TEA. El H₂ se utilizó para inhibir la reacción de recombinación de los radicales (SiF₃ y F) generados en la fotodisociación. La desaparición de la molécula precursora SiF₄ y la aparición del producto SiF₃ H fue caracterizada por espectrometria FTIR. Se determinó la probabilidad de disociación por pulso en función de la fluencia del láser
A TEA CO₂ laser tuned to different lines of the 9,6 μm emission band was used to study the dependence of the infrared multiple photon dissociation (IRMPD) of SiF₄ on the irradiation wavelength. H₂ was used as a radical SiF₃ H were determined by IR spectrometry. The dissociation yield spectrum in the region of 9,6 μm emission band as well as the laser fluence dependence of the dissociation probability have been obtained
Fil: Alcaraz, Alicia Noemí. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fil: Codnia, Jorge. Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (CONICET–CITEFA). Buenos Aires. Argentina
Fil: Azcárate, María Laura. Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (CONICET–CITEFA). Buenos Aires. Argentina
Fuente
An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 2003;01(15):87-89
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
Repositorio
Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
Institución
Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
OAI Identificador
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Acceder
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