Disociación multifotónica IR del SiF₄
- Autores
- Alcaraz, Alicia Noemí; Codnia, Jorge; Azcárate, María Laura
- Año de publicación
- 2002
- Idioma
- español castellano
- Tipo de recurso
- artículo
- Estado
- versión publicada
- Descripción
- Se estudió la disociación multifotónica IR, DMFIR, del SiF₄ con un láser de CO₂ TEA sintonizado en la línea 9P(36), 1031 cmˉ¹, en función del número de pulsos y de la energía del mismo, y de la presión parcial de H₂. Se observó un aumento considerable de la eficiencia de disociación en presencia de H₂ como gas aceptor del radical Sif, respecto de la muestra pura. Se determinó la variación de la fracción disociada por pulso al utilizar distintos gases aceptores: O₂ , CH₄, CH₃Cl y N₂. Tanto los reactivos como los productos fueron analizados por espectrometría IR
A TEA CO₂ laser tuned to the 9P(36), 1031 cmˉ¹ emission line was used to study the dependence of the IRMPD of SiF₄ on the number of irradiation pulses, the pulse energy and the partial pressure of H₂. A considerable increases in the dissociation yield, compared with pure SiF₄, was achieved when H₂ as acceptor of the SiF₃ radical was added. The change in the SiF₄ fraction dissociated per pulse with the addition of different acceptor gases: O₂, CH₄, CH₃Cl and N₂ was determined. IR spectrometry was used to analyze the reactants and products
Fil: Alcaraz, Alicia Noemí. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fil: Codnia, Jorge. Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (CONICET–CITEFA). Buenos Aires. Argentina
Fil: Azcárate, María Laura. Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (CONICET–CITEFA). Buenos Aires. Argentina - Fuente
- An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 2002;01(14):73-75
- Nivel de accesibilidad
- acceso abierto
- Condiciones de uso
- https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
- Repositorio
- Institución
- Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
- OAI Identificador
- afa:afa_v14_n01_p073
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