Influencia de la longitud de onda de irradiación en la fotodisociación del SiF₄ - Alcaraz, Alicia Noemí (2003)
En el presente trabajo se estudió la influencia de la longitud de onda de irradiación en la disociación multifotónica IR (DMFIR) del SiF₄. Para ello se irradiaron mezclas de SiF₄ e H₂ con distintas líneas vibro-rotacionales de la banda de emisión en 9,6 micrometros de un láser de CO₂ TEA. El H₂ se utilizó para inhibir la reacción de recombinación de los radicales (SiF₃ y F) generados en la fotodisociación. La desaparición de la molécula precursora SiF₄ y la aparición del producto SiF₃ H fue caracterizada por espectrometria FTIR. Se determinó la probabilidad de disociación por pulso en función de la fluencia del láser