Fotodisociación IR de SiF₄ en presencia de CH₄

Autores
Alcaraz, Alicia Noemí; Codnia, Jorge; Azcárate, María Laura
Año de publicación
2004
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Se estudió la DMFIR de SiF₄ utilizando CH₄ como gas aceptor. Como mecanismo de excitación se utilizó un láser de CO₂ TEA. Las presiones parciales tanto de reactivos y como de productos se midieron por espectrometría FTIR. A partir de estas mediciones se obtuvo la fracción disociada por pulso en función del número de pulsos y de la presión de gas aceptor. Se identificaron los productos de la disociación SiF₃H y SiF₃ CH₃. Se propuso un esquema cinético y un modelo
The infrared multiphoton dissociation (IRMPD) of SiF4 in mixtures with CH4 was studied using a tunable CO2TEA laser. The disappearance of SiF₄, CH₄ and the formation of the products SiF₃H and SiF₃CH₃ were determined by IR spectrometry. The dependence of the SiF₄ fraction dissociated per pulse on the pressure of acceptor gas has been obtained. A kinetic scheme was proposed to explain the experimental results
Fil: Alcaraz, Alicia Noemí. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fil: Codnia, Jorge. Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (CONICET–CITEFA). Buenos Aires. Argentina
Fil: Azcárate, María Laura. Centro de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (CONICET–CITEFA). Buenos Aires. Argentina
Fuente
An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 2004;01(16):58-61
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
Repositorio
Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
Institución
Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
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