Caracterización de silicio nanocristalino obtenido por PECVD de alta frecuencia

Autores
Concari, Sonia Beatriz; Buitrago, Román Horacio; Cutrera, Miriam; Risso, Gustavo Armando; Battioni, Mario
Año de publicación
1999
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Se estudian las propiedades ópticas y estructurales de películas nanocristalinas de Silicio hidrogenado depositadas por VHF-PECVD a muy baja temperatura (~ 150 ºC). Las condiciones de deposición se ajustaron de modo de obtener un material de buenas características fotovoltaicas. Se presenta la caracterización de películas de Silicio intrínseco, tipo n y p, obtenido empleando respectivamente diluciones de fosfina y diborano en silano. A fin de realizar dicha caracterización, se efectuaron mediciones de conductividad a oscuras, fotoconductividad, gap óptico, coeficiente de absorción, índice de refracción, espectros de dispersión Raman y espectros de transmitancia de radiación UV-Vis.
Asociación Argentina de Energías Renovables y Medio Ambiente (ASADES)
Materia
Ingeniería
Ingeniería Química
silicio nanocristalino
propiedades ópticas
propiedades estructurales
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
Repositorio
SEDICI (UNLP)
Institución
Universidad Nacional de La Plata
OAI Identificador
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