A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition

Autores
Marchi, María Claudia; Aldabe, Sara Alfonsina; Ribeiro, C. T. M.; Ochoa, E. A.; Kleinke, M.; Alvarez, F.
Año de publicación
2010
Idioma
inglés
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
A comprehensive study of nonstoichiometry titanium oxide thin films (TiO x , 0.3≤x≤2) prepared by ion beam deposition technique is reported. The physical properties of the material are studied by ultraviolet and x-ray photoelectron, Raman, and Fourier transform infrared spectroscopies, and atomic force microscopy. An abrupt transition from metallic characteristics to a wide gap semiconductor is observed in a very narrow range of oxygen variation. Concomitantly with this change the crystal structure and morphology suffer remarkable physical properties modifications. This transformation is ascribed to surface-volume energy minimization due to the influence of oxygen determining the size of the TiO 2 particles during coalescence.
Fil: Marchi, María Claudia. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina
Fil: Aldabe, Sara Alfonsina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina
Fil: Ribeiro, C. T. M.. Universidade de Sao Paulo; Brasil
Fil: Ochoa, E. A.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil
Fil: Kleinke, M.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil
Fil: Alvarez, F.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil
Materia
Tio2
Thin Film
Ion Beam Deposition
Xps
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
Repositorio
CONICET Digital (CONICET)
Institución
Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
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Fil: Marchi, María Claudia. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina
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