A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition

Autores
Marchi, María Claudia; Aldabe, Sara Alfonsina; Ribeiro, C. T. M.; Ochoa, E. A.; Kleinke, M.; Alvarez, F.
Año de publicación
2010
Idioma
inglés
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
A comprehensive study of nonstoichiometry titanium oxide thin films (TiO x , 0.3≤x≤2) prepared by ion beam deposition technique is reported. The physical properties of the material are studied by ultraviolet and x-ray photoelectron, Raman, and Fourier transform infrared spectroscopies, and atomic force microscopy. An abrupt transition from metallic characteristics to a wide gap semiconductor is observed in a very narrow range of oxygen variation. Concomitantly with this change the crystal structure and morphology suffer remarkable physical properties modifications. This transformation is ascribed to surface-volume energy minimization due to the influence of oxygen determining the size of the TiO 2 particles during coalescence.
Fil: Marchi, María Claudia. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina
Fil: Aldabe, Sara Alfonsina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina
Fil: Ribeiro, C. T. M.. Universidade de Sao Paulo; Brasil
Fil: Ochoa, E. A.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil
Fil: Kleinke, M.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil
Fil: Alvarez, F.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil
Materia
Tio2
Thin Film
Ion Beam Deposition
Xps
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
Repositorio
CONICET Digital (CONICET)
Institución
Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
OAI Identificador
oai:ri.conicet.gov.ar:11336/83872
Acceder
id CONICETDig_0c4484d07ece2db65f33ee3a1ab2bd34
oai_identifier_str oai:ri.conicet.gov.ar:11336/83872
network_acronym_str CONICETDig
repository_id_str 3498
network_name_str CONICET Digital (CONICET)
spelling A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam depositionMarchi, María ClaudiaAldabe, Sara AlfonsinaRibeiro, C. T. M.Ochoa, E. A.Kleinke, M.Alvarez, F.Tio2Thin FilmIon Beam DepositionXpshttps://purl.org/becyt/ford/1.3https://purl.org/becyt/ford/1A comprehensive study of nonstoichiometry titanium oxide thin films (TiO x , 0.3≤x≤2) prepared by ion beam deposition technique is reported. The physical properties of the material are studied by ultraviolet and x-ray photoelectron, Raman, and Fourier transform infrared spectroscopies, and atomic force microscopy. An abrupt transition from metallic characteristics to a wide gap semiconductor is observed in a very narrow range of oxygen variation. Concomitantly with this change the crystal structure and morphology suffer remarkable physical properties modifications. This transformation is ascribed to surface-volume energy minimization due to the influence of oxygen determining the size of the TiO 2 particles during coalescence.Fil: Marchi, María Claudia. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; ArgentinaFil: Aldabe, Sara Alfonsina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; ArgentinaFil: Ribeiro, C. T. M.. Universidade de Sao Paulo; BrasilFil: Ochoa, E. A.. Universidade Estadual de Campinas; BrasilFil: Kleinke, M.. Universidade Estadual de Campinas; BrasilFil: Alvarez, F.. Universidade Estadual de Campinas; BrasilAmerican Institute of Physics2010-09info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_6501info:ar-repo/semantics/articuloapplication/pdfapplication/pdfapplication/pdfapplication/pdfhttp://hdl.handle.net/11336/83872Marchi, María Claudia; Aldabe, Sara Alfonsina; Ribeiro, C. T. M.; Ochoa, E. A.; Kleinke, M.; et al.; A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition; American Institute of Physics; Journal of Applied Physics; 108; 6; 9-2010; 64912-649190021-8979CONICET DigitalCONICETenginfo:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1063/1.3481442info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.3481442info:eu-repo/semantics/openAccesshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/reponame:CONICET Digital (CONICET)instname:Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas2025-10-15T14:52:40Zoai:ri.conicet.gov.ar:11336/83872instacron:CONICETInstitucionalhttp://ri.conicet.gov.ar/Organismo científico-tecnológicoNo correspondehttp://ri.conicet.gov.ar/oai/requestdasensio@conicet.gov.ar; lcarlino@conicet.gov.arArgentinaNo correspondeNo correspondeNo correspondeopendoar:34982025-10-15 14:52:40.611CONICET Digital (CONICET) - Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicasfalse
dc.title.none.fl_str_mv A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition
title A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition
spellingShingle A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition
Marchi, María Claudia
Tio2
Thin Film
Ion Beam Deposition
Xps
title_short A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition
title_full A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition
title_fullStr A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition
title_full_unstemmed A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition
title_sort A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition
dc.creator.none.fl_str_mv Marchi, María Claudia
Aldabe, Sara Alfonsina
Ribeiro, C. T. M.
Ochoa, E. A.
Kleinke, M.
Alvarez, F.
author Marchi, María Claudia
author_facet Marchi, María Claudia
Aldabe, Sara Alfonsina
Ribeiro, C. T. M.
Ochoa, E. A.
Kleinke, M.
Alvarez, F.
author_role author
author2 Aldabe, Sara Alfonsina
Ribeiro, C. T. M.
Ochoa, E. A.
Kleinke, M.
Alvarez, F.
author2_role author
author
author
author
author
dc.subject.none.fl_str_mv Tio2
Thin Film
Ion Beam Deposition
Xps
topic Tio2
Thin Film
Ion Beam Deposition
Xps
purl_subject.fl_str_mv https://purl.org/becyt/ford/1.3
https://purl.org/becyt/ford/1
dc.description.none.fl_txt_mv A comprehensive study of nonstoichiometry titanium oxide thin films (TiO x , 0.3≤x≤2) prepared by ion beam deposition technique is reported. The physical properties of the material are studied by ultraviolet and x-ray photoelectron, Raman, and Fourier transform infrared spectroscopies, and atomic force microscopy. An abrupt transition from metallic characteristics to a wide gap semiconductor is observed in a very narrow range of oxygen variation. Concomitantly with this change the crystal structure and morphology suffer remarkable physical properties modifications. This transformation is ascribed to surface-volume energy minimization due to the influence of oxygen determining the size of the TiO 2 particles during coalescence.
Fil: Marchi, María Claudia. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina
Fil: Aldabe, Sara Alfonsina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Química, Física de los Materiales, Medioambiente y Energía; Argentina. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina
Fil: Ribeiro, C. T. M.. Universidade de Sao Paulo; Brasil
Fil: Ochoa, E. A.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil
Fil: Kleinke, M.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil
Fil: Alvarez, F.. Universidade Estadual de Campinas; Brasil
description A comprehensive study of nonstoichiometry titanium oxide thin films (TiO x , 0.3≤x≤2) prepared by ion beam deposition technique is reported. The physical properties of the material are studied by ultraviolet and x-ray photoelectron, Raman, and Fourier transform infrared spectroscopies, and atomic force microscopy. An abrupt transition from metallic characteristics to a wide gap semiconductor is observed in a very narrow range of oxygen variation. Concomitantly with this change the crystal structure and morphology suffer remarkable physical properties modifications. This transformation is ascribed to surface-volume energy minimization due to the influence of oxygen determining the size of the TiO 2 particles during coalescence.
publishDate 2010
dc.date.none.fl_str_mv 2010-09
dc.type.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
info:ar-repo/semantics/articulo
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.none.fl_str_mv http://hdl.handle.net/11336/83872
Marchi, María Claudia; Aldabe, Sara Alfonsina; Ribeiro, C. T. M.; Ochoa, E. A.; Kleinke, M.; et al.; A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition; American Institute of Physics; Journal of Applied Physics; 108; 6; 9-2010; 64912-64919
0021-8979
CONICET Digital
CONICET
url http://hdl.handle.net/11336/83872
identifier_str_mv Marchi, María Claudia; Aldabe, Sara Alfonsina; Ribeiro, C. T. M.; Ochoa, E. A.; Kleinke, M.; et al.; A comprehensive study of the influence of the stoichiometry on the physical properties of TiO x films prepared by ion beam deposition; American Institute of Physics; Journal of Applied Physics; 108; 6; 9-2010; 64912-64919
0021-8979
CONICET Digital
CONICET
dc.language.none.fl_str_mv eng
language eng
dc.relation.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1063/1.3481442
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.3481442
dc.rights.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
application/pdf
application/pdf
application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv American Institute of Physics
publisher.none.fl_str_mv American Institute of Physics
dc.source.none.fl_str_mv reponame:CONICET Digital (CONICET)
instname:Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
reponame_str CONICET Digital (CONICET)
collection CONICET Digital (CONICET)
instname_str Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
repository.name.fl_str_mv CONICET Digital (CONICET) - Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
repository.mail.fl_str_mv dasensio@conicet.gov.ar; lcarlino@conicet.gov.ar
_version_ 1846083055407595520
score 13.22299

Publicaciones similares