Características morfológicas de láminas delgadas de ZnO : Al obtenidas por sputtering de RF

Autores
Furlani, Mirta Gladis; Buitrago, Román Horacio
Año de publicación
2003
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
El óxido de zinc dopado con aluminio (ZnO:Al) en forma de película delgada fue depositado por la técnica de sputtering de RF. Se modificó la geometría del reactor y las variables de operación tales como la temperatura del sustrato y la presión de argón, para depositar una serie de filmes con propiedades ópticas diversas. La transmitancia óptica se registró con un espectrofotómetro UV-Vis y se obtuvieron los espesores por el método de Swanepoel. Se estudió la morfología de la superficie incluyendo el crecimiento piramidal y la rugosidad de la superficie con un microscopio de fuerza atómica (AFM) y se correlacionó con el Haze calculado a partir de los datos de los espectros obtenidos de transmitancia directa y difusa. Se propone un método de cálculo para caracterizar la textura superficial del film depositado
Al-doped zinc oxide (ZnO:Al) films have been deposited using RF sputtering. The geometry of the reactor and the operation variables as the temperature of the substrate and the pressure of argon were modified, to deposit a series of films with diverse optic properties. The optical transmittance of the films was registered using an UV-Vis spectrophotometer and the thicknesses were obtained by the method of Swanepoel. Surface morphology, including growth pyramids and rough surface was studied using an Atomic Force Microscope, and correlated with the Haze calculated starting from the data of the obtained spectra of direct and diffuse transmittance. A method to characterize the surface texture is proposed
Fil: Furlani, Mirta Gladis. Universidad Nacional del Litoral. Facultad de Ingeniería Química (UNL-FIQ) Santa Fe. Argentina
Fil: Buitrago, Román Horacio. Universidad Nacional del Litoral. Facultad de Ingeniería Química (UNL-FIQ). Santa Fe. Argentina
Fuente
An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 2003;01(15):218-220
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
Repositorio
Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
Institución
Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
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Al-doped zinc oxide (ZnO:Al) films have been deposited using RF sputtering. The geometry of the reactor and the operation variables as the temperature of the substrate and the pressure of argon were modified, to deposit a series of films with diverse optic properties. The optical transmittance of the films was registered using an UV-Vis spectrophotometer and the thicknesses were obtained by the method of Swanepoel. Surface morphology, including growth pyramids and rough surface was studied using an Atomic Force Microscope, and correlated with the Haze calculated starting from the data of the obtained spectra of direct and diffuse transmittance. A method to characterize the surface texture is proposed
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