Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensibles

Autores
Lombardi, Rina Marta Ana
Año de publicación
2006
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
tesis doctoral
Estado
versión publicada
Colaborador/a o director/a de tesis
Aragón, Ricardo
Descripción
Se describe la fabricación y caracterización de capacitores MOS selectivamente sensibles a H2 y NO2, por deposición PVD de compuertas de Pd y Mo, para el primer caso, y Au, para el segundo, sobre Si(100) tipo p, térmicamente oxidado a 130 nm, operados a 150°C, en atmósfera controlada. Las medidas de capacitancia, así como de fotocorriente inducida por luz pulsada, como función de tensión de polarización, admiten interpretación en términos de un circuito equivalente único, si se reemplaza la capacitancia de los estados superficiales por una impedancia distribuída, para modelar la fotocorriente sobre el borde de las compuertas. La interacción analito - compuerta debe generar especies de carga positiva, en H2/Pd, y negativa, en NO2/Au, que induzcan cargas opuestas en la interfaz Si/SiO2, modificando la carga en el semiconductor por refuerzo de la capa de inversión en el canal, por encima de la tensión de encendido, para inducir desplazamientos de señal con tensión de polarización, negativos para estímulos dadores como H2 y positivos para aceptores como NO2. Por debajo de la tensión de encendido, se observa inversión de estas respuestas, por cambios en la población de estados de interfaz.
MOS capacitors, selectively sensitive to H2 and NO2, were fabricated by PVD deposition of Pd and Mo gates in the Þrst, and Au in the second case, on p-type (100) Si, thermally oxidised to 130 nm, and characterised, operated at 150oC, under controlled atmospheres. The dependence of capacitance, as well as pulsed illumination photocurrent measurements, on polarisation voltage can be interpreted in terms of a single equivalent circuit, if the surface state capacitance is replaced by a distributed impedance network, to model photocurrent at the gate edges. The analyte - gate interaction must generate charges, positive for H2/Pd, and negative for NO2/Au, which induce their opposites at the Si/SiO2 interface, thereby modifying the semiconductor charge, by reinforcement of the channel inversion layer above the threshold voltage, to induce signal shifts with polarisation, negative for donor stimuli such as H2 and positive for acceptors such as NO2. Below the threshold voltage, inversion of these responses is observed, due to changes in interface state population.
Fil: Lombardi, Rina Marta Ana. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales; Argentina.
Materia
CMOS
SENSIBILIDAD QUIMICA
ESTADOS DE INTERFAZ
CHEMICAL SENSITIVITY
INTERFACE STATES
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
Repositorio
Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
Institución
Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
OAI Identificador
tesis:tesis_n3977_Lombardi

id BDUBAFCEN_b2c1688772e01692a85ad149400ae9c1
oai_identifier_str tesis:tesis_n3977_Lombardi
network_acronym_str BDUBAFCEN
repository_id_str 1896
network_name_str Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
spelling Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensiblesTheory and practice of chemically sensitive field effect devicesLombardi, Rina Marta AnaCMOSSENSIBILIDAD QUIMICAESTADOS DE INTERFAZCHEMICAL SENSITIVITYINTERFACE STATESSe describe la fabricación y caracterización de capacitores MOS selectivamente sensibles a H2 y NO2, por deposición PVD de compuertas de Pd y Mo, para el primer caso, y Au, para el segundo, sobre Si(100) tipo p, térmicamente oxidado a 130 nm, operados a 150°C, en atmósfera controlada. Las medidas de capacitancia, así como de fotocorriente inducida por luz pulsada, como función de tensión de polarización, admiten interpretación en términos de un circuito equivalente único, si se reemplaza la capacitancia de los estados superficiales por una impedancia distribuída, para modelar la fotocorriente sobre el borde de las compuertas. La interacción analito - compuerta debe generar especies de carga positiva, en H2/Pd, y negativa, en NO2/Au, que induzcan cargas opuestas en la interfaz Si/SiO2, modificando la carga en el semiconductor por refuerzo de la capa de inversión en el canal, por encima de la tensión de encendido, para inducir desplazamientos de señal con tensión de polarización, negativos para estímulos dadores como H2 y positivos para aceptores como NO2. Por debajo de la tensión de encendido, se observa inversión de estas respuestas, por cambios en la población de estados de interfaz.MOS capacitors, selectively sensitive to H2 and NO2, were fabricated by PVD deposition of Pd and Mo gates in the Þrst, and Au in the second case, on p-type (100) Si, thermally oxidised to 130 nm, and characterised, operated at 150oC, under controlled atmospheres. The dependence of capacitance, as well as pulsed illumination photocurrent measurements, on polarisation voltage can be interpreted in terms of a single equivalent circuit, if the surface state capacitance is replaced by a distributed impedance network, to model photocurrent at the gate edges. The analyte - gate interaction must generate charges, positive for H2/Pd, and negative for NO2/Au, which induce their opposites at the Si/SiO2 interface, thereby modifying the semiconductor charge, by reinforcement of the channel inversion layer above the threshold voltage, to induce signal shifts with polarisation, negative for donor stimuli such as H2 and positive for acceptors such as NO2. Below the threshold voltage, inversion of these responses is observed, due to changes in interface state population.Fil: Lombardi, Rina Marta Ana. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales; Argentina.Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y NaturalesAragón, Ricardo2006info:eu-repo/semantics/doctoralThesisinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_db06info:ar-repo/semantics/tesisDoctoralapplication/pdfhttps://hdl.handle.net/20.500.12110/tesis_n3977_Lombardispainfo:eu-repo/semantics/openAccesshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/arreponame:Biblioteca Digital (UBA-FCEN)instname:Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturalesinstacron:UBA-FCEN2025-09-18T10:08:42Ztesis:tesis_n3977_LombardiInstitucionalhttps://digital.bl.fcen.uba.ar/Universidad públicaNo correspondehttps://digital.bl.fcen.uba.ar/cgi-bin/oaiserver.cgiana@bl.fcen.uba.arArgentinaNo correspondeNo correspondeNo correspondeopendoar:18962025-09-18 10:08:43.409Biblioteca Digital (UBA-FCEN) - Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturalesfalse
dc.title.none.fl_str_mv Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensibles
Theory and practice of chemically sensitive field effect devices
title Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensibles
spellingShingle Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensibles
Lombardi, Rina Marta Ana
CMOS
SENSIBILIDAD QUIMICA
ESTADOS DE INTERFAZ
CHEMICAL SENSITIVITY
INTERFACE STATES
title_short Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensibles
title_full Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensibles
title_fullStr Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensibles
title_full_unstemmed Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensibles
title_sort Teoría y práctica de dispositivos de efecto de campo químicamente sensibles
dc.creator.none.fl_str_mv Lombardi, Rina Marta Ana
author Lombardi, Rina Marta Ana
author_facet Lombardi, Rina Marta Ana
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Aragón, Ricardo
dc.subject.none.fl_str_mv CMOS
SENSIBILIDAD QUIMICA
ESTADOS DE INTERFAZ
CHEMICAL SENSITIVITY
INTERFACE STATES
topic CMOS
SENSIBILIDAD QUIMICA
ESTADOS DE INTERFAZ
CHEMICAL SENSITIVITY
INTERFACE STATES
dc.description.none.fl_txt_mv Se describe la fabricación y caracterización de capacitores MOS selectivamente sensibles a H2 y NO2, por deposición PVD de compuertas de Pd y Mo, para el primer caso, y Au, para el segundo, sobre Si(100) tipo p, térmicamente oxidado a 130 nm, operados a 150°C, en atmósfera controlada. Las medidas de capacitancia, así como de fotocorriente inducida por luz pulsada, como función de tensión de polarización, admiten interpretación en términos de un circuito equivalente único, si se reemplaza la capacitancia de los estados superficiales por una impedancia distribuída, para modelar la fotocorriente sobre el borde de las compuertas. La interacción analito - compuerta debe generar especies de carga positiva, en H2/Pd, y negativa, en NO2/Au, que induzcan cargas opuestas en la interfaz Si/SiO2, modificando la carga en el semiconductor por refuerzo de la capa de inversión en el canal, por encima de la tensión de encendido, para inducir desplazamientos de señal con tensión de polarización, negativos para estímulos dadores como H2 y positivos para aceptores como NO2. Por debajo de la tensión de encendido, se observa inversión de estas respuestas, por cambios en la población de estados de interfaz.
MOS capacitors, selectively sensitive to H2 and NO2, were fabricated by PVD deposition of Pd and Mo gates in the Þrst, and Au in the second case, on p-type (100) Si, thermally oxidised to 130 nm, and characterised, operated at 150oC, under controlled atmospheres. The dependence of capacitance, as well as pulsed illumination photocurrent measurements, on polarisation voltage can be interpreted in terms of a single equivalent circuit, if the surface state capacitance is replaced by a distributed impedance network, to model photocurrent at the gate edges. The analyte - gate interaction must generate charges, positive for H2/Pd, and negative for NO2/Au, which induce their opposites at the Si/SiO2 interface, thereby modifying the semiconductor charge, by reinforcement of the channel inversion layer above the threshold voltage, to induce signal shifts with polarisation, negative for donor stimuli such as H2 and positive for acceptors such as NO2. Below the threshold voltage, inversion of these responses is observed, due to changes in interface state population.
Fil: Lombardi, Rina Marta Ana. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales; Argentina.
description Se describe la fabricación y caracterización de capacitores MOS selectivamente sensibles a H2 y NO2, por deposición PVD de compuertas de Pd y Mo, para el primer caso, y Au, para el segundo, sobre Si(100) tipo p, térmicamente oxidado a 130 nm, operados a 150°C, en atmósfera controlada. Las medidas de capacitancia, así como de fotocorriente inducida por luz pulsada, como función de tensión de polarización, admiten interpretación en términos de un circuito equivalente único, si se reemplaza la capacitancia de los estados superficiales por una impedancia distribuída, para modelar la fotocorriente sobre el borde de las compuertas. La interacción analito - compuerta debe generar especies de carga positiva, en H2/Pd, y negativa, en NO2/Au, que induzcan cargas opuestas en la interfaz Si/SiO2, modificando la carga en el semiconductor por refuerzo de la capa de inversión en el canal, por encima de la tensión de encendido, para inducir desplazamientos de señal con tensión de polarización, negativos para estímulos dadores como H2 y positivos para aceptores como NO2. Por debajo de la tensión de encendido, se observa inversión de estas respuestas, por cambios en la población de estados de interfaz.
publishDate 2006
dc.date.none.fl_str_mv 2006
dc.type.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
info:ar-repo/semantics/tesisDoctoral
format doctoralThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.none.fl_str_mv https://hdl.handle.net/20.500.12110/tesis_n3977_Lombardi
url https://hdl.handle.net/20.500.12110/tesis_n3977_Lombardi
dc.language.none.fl_str_mv spa
language spa
dc.rights.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
publisher.none.fl_str_mv Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
instname:Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
instacron:UBA-FCEN
reponame_str Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
collection Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
instname_str Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
instacron_str UBA-FCEN
institution UBA-FCEN
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital (UBA-FCEN) - Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
repository.mail.fl_str_mv ana@bl.fcen.uba.ar
_version_ 1843608727748345856
score 13.001348