Túnel en estructuras aluminio-oxinitruro de silicio-silicio

Autores
Faigón, Adrián Néstor; Straboni, A.; Miranda, Enrique A.; Redin, Eduardo Gabriel
Año de publicación
1991
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Se investigaron las barreras de túnel en estructuras MOS con aislantes de oxinitruro de silicio obtenidos por nitruración de dióxido de silicio en plasma de amonia. De las oscilaciones de la corriente asociadas a la reflexión parcial de los electrones en la interfase Si-aislante se obtuvo información acerca de la barrera en dicha interfase. Se presenta un cálculo autoconsistente para la determinación de la barrera catódica por el método de Fowler- Nordheim para aislantes delgados. Los resultados obtenidos muestran una disminución en la altura de la barrera catódica con el tiempo de nitruración y que para nitruraciones prolongadas el mecanismo de conducción deja de ser túnel Fowler-Nordheim puro.
Fil: Faigón, Adrián Néstor. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fil: Straboni, A.. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fil: Miranda, Enrique A.. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fil: Redin, Eduardo Gabriel. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fuente
An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 1991;01(03):371-375
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
Repositorio
Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
Institución
Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
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