Propiedades dieléctricas de volúmen en interfaces de semiconductores dentro de un esquema de ligadura fuerte
- Autores
- Elvira, Víctor Daniel; Durán, Julio César
- Año de publicación
- 1990
- Idioma
- español castellano
- Tipo de recurso
- artículo
- Estado
- versión publicada
- Descripción
- Como una extensión de un trabajo previo, se utiliza una aproximación de ligadura fuerte para analizar el comportamiento dieléctrico de volúmen e interfaces de semiconductores. En esta oportunidad, se incluyen cálculos con parámetros que tienen en cuenta interacciones hasta segundos vecinos y se proponen diferentes modelos electrostáticos simples para describir la densidad de carga inducida alrededor de los átomos. En particular, se calcula la función dieléctrica para C, Si, Ge, As Ga y AsAl, observándose un acuerdo razonable con cálculos más sofisticados. Asimismo, se obtiene la discontinuidad de banda y el apantallamiento en la interface AsGa- As Al (100), y se correlaciona este apantallamiento con propiedades de ambos semiconductores. Los resultados presentados dan un nuevo respaldo al uso del modelo de ligadura fuerte autoconsistente para el análisis de propiedades dieléctricas de volúmen e interfaces de semiconductores
Fil: Elvira, Víctor Daniel. Comisión Nacional de Energía Atómica. División Energía solar (CNEA). CABA. Argentina
Fil: Durán, Julio César. Comisión Nacional de Energía Atómica. División Energía solar (CNEA). CABA. Argentina - Fuente
- An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 1990;01(02):242-246
- Nivel de accesibilidad
- acceso abierto
- Condiciones de uso
- https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
- Repositorio
- Institución
- Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
- OAI Identificador
- afa:afa_v02_n01_p242
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Propiedades dieléctricas de volúmen en interfaces de semiconductores dentro de un esquema de ligadura fuerteElvira, Víctor DanielDurán, Julio CésarComo una extensión de un trabajo previo, se utiliza una aproximación de ligadura fuerte para analizar el comportamiento dieléctrico de volúmen e interfaces de semiconductores. En esta oportunidad, se incluyen cálculos con parámetros que tienen en cuenta interacciones hasta segundos vecinos y se proponen diferentes modelos electrostáticos simples para describir la densidad de carga inducida alrededor de los átomos. En particular, se calcula la función dieléctrica para C, Si, Ge, As Ga y AsAl, observándose un acuerdo razonable con cálculos más sofisticados. Asimismo, se obtiene la discontinuidad de banda y el apantallamiento en la interface AsGa- As Al (100), y se correlaciona este apantallamiento con propiedades de ambos semiconductores. Los resultados presentados dan un nuevo respaldo al uso del modelo de ligadura fuerte autoconsistente para el análisis de propiedades dieléctricas de volúmen e interfaces de semiconductoresFil: Elvira, Víctor Daniel. Comisión Nacional de Energía Atómica. División Energía solar (CNEA). CABA. ArgentinaFil: Durán, Julio César. Comisión Nacional de Energía Atómica. División Energía solar (CNEA). CABA. ArgentinaAsociación Física Argentina1990info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_6501info:ar-repo/semantics/articuloapplication/pdfhttps://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v02_n01_p242An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 1990;01(02):242-246reponame:Biblioteca Digital (UBA-FCEN)instname:Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturalesinstacron:UBA-FCENspainfo:eu-repo/semantics/openAccesshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar2025-09-29T13:40:31Zafa:afa_v02_n01_p242Institucionalhttps://digital.bl.fcen.uba.ar/Universidad públicaNo correspondehttps://digital.bl.fcen.uba.ar/cgi-bin/oaiserver.cgiana@bl.fcen.uba.arArgentinaNo correspondeNo correspondeNo correspondeopendoar:18962025-09-29 13:40:32.716Biblioteca Digital (UBA-FCEN) - Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturalesfalse |
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