Estudio de procesos avanzados para la oxidación y posterior remoción de arsénico en Agua. Aplicación del proceso UV H2O2

• Autores: Lescano, Maia Raquel; Lescano, Maia Raquel
• Año de publicación: 2014
• Idioma: español castellano
• Tipo de recurso: tesis doctoral
• Colaborador/a o director/a de tesis: Brandi, Rodolfo Juan; Fidalgo, María Marta; García Einschlag, Fernando Sebastián; Sigrist, Mirna; Zalazar, Cristina Susana
• Materia: Arsenic; Advanced Oxidation Processes; Removal; Water Treatment; Arsénico; Procesos Avanzados de Oxidación; Remoción; Tratamiento de aguas
• Institución: Universidad Nacional del Litoral

Fil: Lescano, Maia Raquel. Universidad Nacional del Litoral. Facultad de Ingeniería Química; Argentina.
La contaminación con arsénico es un problema mundial. Debido a su toxicidad, se ha establecido una concentración máxima de 10 ppb para aguas de consumo. Las aguas subterráneas contienen las formas inorgánicas de As (III) (arsenito) y As (V) (arseniato). El arsenito es más tóxico y difícil de remover que el arseniato. Los procesos avanzados son más convenientes para la oxidación que los métodos tradicionales. El proceso UV H2O2 es eficiente y sencillo de implementar. Por otro lado, la adsorción es un proceso de remoción atractivo debido a su alta eficiencia y bajo costo. El objetivo de esta tesis es el estudio del proceso UV H2O2 combinado a una tecnología de adsorción para la remoción de arsénico en agua. Las experiencias de oxidación fueron llevadas a cabo en un pequeño reactor empleando diferentes condiciones operativas. Se desarrolló un esquema de reacción y se estimaron los parámetros cinéticos. Para el estudio del proceso de adsorción, se evaluaron tres materiales mediante ensayos batch y en columna. Este proceso fue modelado obteniéndose las isotermas y curvas de ruptura. Finalmente, se construyó un equipo que combina ambos procesos a mayor escala y las experiencias se llevaron a cabo bajo diferentes condiciones operativas. Puede concluirse que el proceso UV H2O2 es eficiente para la oxidación de arsénico(III) en agua. Además, la tecnología combinada es eficiente y prometedora para la remoción de arsénico a pequeña y mediana escala. Aplicando diferentes modelos para cada proceso, se logró diseñar un sistema combinado de remoción y predecir su desempeño.
La contaminación con arsénico es un problema mundial. Debido a su toxicidad, se ha establecido una concentración máxima de 10 ppb para aguas de consumo. Las aguas subterráneas contienen las formas inorgánicas de As (III) (arsenito) y As (V) (arseniato). El arsenito es más tóxico y difícil de remover que el arseniato. Los procesos avanzados son más convenientes para la oxidación que los métodos tradicionales. El proceso UV H2O2 es eficiente y sencillo de implementar. Por otro lado, la adsorción es un proceso de remoción atractivo debido a su alta eficiencia y bajo costo. El objetivo de esta tesis es el estudio del proceso UV H2O2 combinado a una tecnología de adsorción para la remoción de arsénico en agua. Las experiencias de oxidación fueron llevadas a cabo en un pequeño reactor empleando diferentes condiciones operativas. Se desarrolló un esquema de reacción y se estimaron los parámetros cinéticos. Para el estudio del proceso de adsorción, se evaluaron tres materiales mediante ensayos batch y en columna. Este proceso fue modelado obteniéndose las isotermas y curvas de ruptura. Finalmente, se construyó un equipo que combina ambos procesos a mayor escala y las experiencias se llevaron a cabo bajo diferentes condiciones operativas. Puede concluirse que el proceso UV H2O2 es eficiente para la oxidación de arsénico(III) en agua. Además, la tecnología combinada es eficiente y prometedora para la remoción de arsénico a pequeña y mediana escala. Aplicando diferentes modelos para cada proceso, se logró diseñar un sistema combinado de remoción y predecir su desempeño.
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