Electrodeposición de estaño en oxalina, un solvente eutéctico profundo basado en cloruro de colina y ácido oxálico

Autores
Tsunoda, Sofia; Azpeitia, Leticia Anahí; Rodríguez Presa, María José; Gervasi, Claudio Alfredo; Bolzán, Agustín Eduardo
Año de publicación
2025
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
documento de conferencia
Estado
versión publicada
Descripción
Los solventes eutécticos profundos (DES) son considerados solventes estratégicos con gran potencial para aplicaciones tecnológicas entre las cuales se destaca la electrodeposición de metales. Estos solventes presentan ventajas significativas debido a su bajo impacto ambiental y sus propiedades únicas en comparación con los solventes acuosos convencionales. Un área particular de interés es la electrodeposición de estaño, fundamental en aplicaciones industriales como el recubrimiento de estaño para aceros (tin-plate) o el desarrollo de ánodos de estaño para baterías de iones de litio. Nuestro grupo de investigación ha abordado el estudio de la electrodeposición de estaño desde soluciones de sales de Sn en DES de pH neutro y básico. No obstante, la investigación sobre DES con pH ácido, especialmente en lo que respecta al electrodepósito de estaño, es aún limitada. En el presente trabajo, se ha estudiado la electrodeposición de estaño desde una solución en el solvente oxalina, un DES constituido por cloruro de colina y ácido oxálico, con un pH de 1,32. El estudio explora el efecto de la naturaleza del sustrato (carbono vítreo GC y cobre policristalino Cu) y de las rutinas de electrodeposición, sobre las características de los depósitos obtenidos. Para ello se caracterizó la reacción de electrodeposición de Sn aplicando estudios electroquímicos consistentes en mediciones voltamperométricas y cronoamperométricas. En base a estos resultados se obtuvieron depósitos de estaño aplicando escalones de potencial a distintos tiempos de duración, como así también rutinas galvanostáticas de ondas cuadradas de corriente.
Facultad de Ingeniería
Materia
Ingeniería
electrodeposición de estaño
solvente oxalina
naturaleza del sustrato
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
Repositorio
SEDICI (UNLP)
Institución
Universidad Nacional de La Plata
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