Muestreo simple y doble para el monitoreo de unidades no conformes en procesos de alta calidad

Autores
Joekes, Silvia; Righetti, Andrea F.; Smrekar, Marcelo
Año de publicación
2018
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
documento de conferencia
Estado
versión publicada
Descripción
Fil: Joekes, Silvia. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Ciencias Económicas.Instituto de Estadística y Demografía; Argentina.
Fil: Righetti, Andrea F. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Ciencias Económicas.Instituto de Estadística y Demografía; Argentina.
Fil: Smrekar, Marcelo. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Ciencias Exactas, Físicas y Naturales. Laboratorio de Ingeniería y Mantenimiento Industrial; Argentina.
En este trabajo se propone un nuevo procedimiento, el gráfico de control con muestreo doble (MD), cuyo objetivo es mejorar la capacidad para detectar cualquier condición de fuera de control mediante la observación de una segunda muestra. La eficacia de este procedimiento se basa principalmente en el hecho de que permite observar cambios pequeños o moderados en la proporción de unidades no conformes del proceso, sin aumentar el muestreo. El muestreo doble es especialmente útil cuando se lo utiliza en procesos de alta calidad, en los cuales la proporción de unidades no conformes y el tamaño de la muestra son reducidos. En esta situación, una alternativa posible consiste en emplear el gráfico np mejorado en la primera etapa del muestreo, dado que este procedimiento ha mostrado una gran ventaja sobre el gráfico np habitual para atributos. La utilización del muestreo doble en una segunda etapa del muestreo, tiene, además, dos posibles ventajas. En primer lugar, permite reducir la cantidad total de inspección y en segundo lugar, le da al proceso una segunda oportunidad antes de tomar una decisión. Finalmente se muestran los beneficios del gráfico np mejorado con muestreo doble evaluados en términos de eficacia estadística (longitud media de corrida, ARL) y se lo compara con el mismo gráfico con muestreo simple. Además, se presenta el procedimiento para la elección adecuada del plan de muestreo doble en función de los cinco parámetros requeridos. El trabajo incluye una aplicación con datos reales que permite observar los beneficios del muestreo doble en el monitoreo y seguimiento de procesos de alta calidad.
Fil: Joekes, Silvia. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Ciencias Económicas.Instituto de Estadística y Demografía; Argentina.
Fil: Righetti, Andrea F. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Ciencias Económicas.Instituto de Estadística y Demografía; Argentina.
Fil: Smrekar, Marcelo. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Ciencias Exactas, Físicas y Naturales. Laboratorio de Ingeniería y Mantenimiento Industrial; Argentina.
Estadística y Probabilidad
Materia
Gráficos de control
Gráfico np mejorado
Muestreo doble
Procesos de alta calidad
Proporción de unidades no conformes
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
Repositorio
Repositorio Digital Universitario (UNC)
Institución
Universidad Nacional de Córdoba
OAI Identificador
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En este trabajo se propone un nuevo procedimiento, el gráfico de control con muestreo doble (MD), cuyo objetivo es mejorar la capacidad para detectar cualquier condición de fuera de control mediante la observación de una segunda muestra. La eficacia de este procedimiento se basa principalmente en el hecho de que permite observar cambios pequeños o moderados en la proporción de unidades no conformes del proceso, sin aumentar el muestreo. El muestreo doble es especialmente útil cuando se lo utiliza en procesos de alta calidad, en los cuales la proporción de unidades no conformes y el tamaño de la muestra son reducidos. En esta situación, una alternativa posible consiste en emplear el gráfico np mejorado en la primera etapa del muestreo, dado que este procedimiento ha mostrado una gran ventaja sobre el gráfico np habitual para atributos. La utilización del muestreo doble en una segunda etapa del muestreo, tiene, además, dos posibles ventajas. En primer lugar, permite reducir la cantidad total de inspección y en segundo lugar, le da al proceso una segunda oportunidad antes de tomar una decisión. Finalmente se muestran los beneficios del gráfico np mejorado con muestreo doble evaluados en términos de eficacia estadística (longitud media de corrida, ARL) y se lo compara con el mismo gráfico con muestreo simple. Además, se presenta el procedimiento para la elección adecuada del plan de muestreo doble en función de los cinco parámetros requeridos. El trabajo incluye una aplicación con datos reales que permite observar los beneficios del muestreo doble en el monitoreo y seguimiento de procesos de alta calidad.
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