Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage

Autores
Franco Arias, Lina Maria; Fazio, Mariana Andrea; Halac, Emilia Beatriz; Vega, Daniel Alberto; Heredia, Eduardo Armando; Kleiman, Ariel Javier; Marquez, Adriana Beatriz
Año de publicación
2015
Idioma
inglés
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Titanium dioxide thin films have been deposited on silicon (100) and 316L stainless steel substrates by cathodic arc deposition in oxygen atmosphere with a titanium cathode. The process was run at room temperature and at 300 °C, biasing the substrate with pulsed voltage (up to ?10 kV) and DC voltage (up to ?120 V). The crystalline structure was studied by Raman spectroscopy and X-ray diffraction. At room temperature, the films were obtained with an amorphous base with small isolated crystals of rutile and anatase. At 300 °C, with DC bias, samples grew crystalline with the presence of both anatase and rutile.
Fil: Franco Arias, Lina Maria. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; Argentina
Fil: Fazio, Mariana Andrea. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; Argentina
Fil: Halac, Emilia Beatriz. Comisión Nacional de Energía Atómica; Argentina
Fil: Vega, Daniel Alberto. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Bahía Blanca. Instituto de Física del Sur. Universidad Nacional del Sur. Departamento de Física. Instituto de Física del Sur; Argentina
Fil: Heredia, Eduardo Armando. Ministerio de Defensa. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa; Argentina
Fil: Kleiman, Ariel Javier. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; Argentina
Fil: Marquez, Adriana Beatriz. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; Argentina
Materia
Titanium Dioxide
Cathodic Arc
Raman Spectroscopy
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
Repositorio
CONICET Digital (CONICET)
Institución
Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
OAI Identificador
oai:ri.conicet.gov.ar:11336/57657

id CONICETDig_7cb423f5d3597af87c49c3a962868320
oai_identifier_str oai:ri.conicet.gov.ar:11336/57657
network_acronym_str CONICETDig
repository_id_str 3498
network_name_str CONICET Digital (CONICET)
spelling Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias VoltageFranco Arias, Lina MariaFazio, Mariana AndreaHalac, Emilia BeatrizVega, Daniel AlbertoHeredia, Eduardo ArmandoKleiman, Ariel JavierMarquez, Adriana BeatrizTitanium DioxideCathodic ArcRaman Spectroscopyhttps://purl.org/becyt/ford/1.3https://purl.org/becyt/ford/1https://purl.org/becyt/ford/1.3https://purl.org/becyt/ford/1Titanium dioxide thin films have been deposited on silicon (100) and 316L stainless steel substrates by cathodic arc deposition in oxygen atmosphere with a titanium cathode. The process was run at room temperature and at 300 °C, biasing the substrate with pulsed voltage (up to ?10 kV) and DC voltage (up to ?120 V). The crystalline structure was studied by Raman spectroscopy and X-ray diffraction. At room temperature, the films were obtained with an amorphous base with small isolated crystals of rutile and anatase. At 300 °C, with DC bias, samples grew crystalline with the presence of both anatase and rutile.Fil: Franco Arias, Lina Maria. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; ArgentinaFil: Fazio, Mariana Andrea. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; ArgentinaFil: Halac, Emilia Beatriz. Comisión Nacional de Energía Atómica; ArgentinaFil: Vega, Daniel Alberto. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Bahía Blanca. Instituto de Física del Sur. Universidad Nacional del Sur. Departamento de Física. Instituto de Física del Sur; ArgentinaFil: Heredia, Eduardo Armando. Ministerio de Defensa. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa; ArgentinaFil: Kleiman, Ariel Javier. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; ArgentinaFil: Marquez, Adriana Beatriz. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; ArgentinaElsevier2015-09info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_6501info:ar-repo/semantics/articuloapplication/pdfapplication/pdfapplication/pdfapplication/pdfhttp://hdl.handle.net/11336/57657Franco Arias, Lina Maria; Fazio, Mariana Andrea; Halac, Emilia Beatriz; Vega, Daniel Alberto; Heredia, Eduardo Armando; et al.; Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage; Elsevier; Procedia materials science; 593; 9-2015; 39-452211-8128CONICET DigitalCONICETenginfo:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2211812815000474info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1016/j.mspro.2015.04.046info:eu-repo/semantics/openAccesshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/reponame:CONICET Digital (CONICET)instname:Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas2025-09-29T09:58:30Zoai:ri.conicet.gov.ar:11336/57657instacron:CONICETInstitucionalhttp://ri.conicet.gov.ar/Organismo científico-tecnológicoNo correspondehttp://ri.conicet.gov.ar/oai/requestdasensio@conicet.gov.ar; lcarlino@conicet.gov.arArgentinaNo correspondeNo correspondeNo correspondeopendoar:34982025-09-29 09:58:31.175CONICET Digital (CONICET) - Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicasfalse
dc.title.none.fl_str_mv Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage
title Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage
spellingShingle Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage
Franco Arias, Lina Maria
Titanium Dioxide
Cathodic Arc
Raman Spectroscopy
title_short Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage
title_full Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage
title_fullStr Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage
title_full_unstemmed Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage
title_sort Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage
dc.creator.none.fl_str_mv Franco Arias, Lina Maria
Fazio, Mariana Andrea
Halac, Emilia Beatriz
Vega, Daniel Alberto
Heredia, Eduardo Armando
Kleiman, Ariel Javier
Marquez, Adriana Beatriz
author Franco Arias, Lina Maria
author_facet Franco Arias, Lina Maria
Fazio, Mariana Andrea
Halac, Emilia Beatriz
Vega, Daniel Alberto
Heredia, Eduardo Armando
Kleiman, Ariel Javier
Marquez, Adriana Beatriz
author_role author
author2 Fazio, Mariana Andrea
Halac, Emilia Beatriz
Vega, Daniel Alberto
Heredia, Eduardo Armando
Kleiman, Ariel Javier
Marquez, Adriana Beatriz
author2_role author
author
author
author
author
author
dc.subject.none.fl_str_mv Titanium Dioxide
Cathodic Arc
Raman Spectroscopy
topic Titanium Dioxide
Cathodic Arc
Raman Spectroscopy
purl_subject.fl_str_mv https://purl.org/becyt/ford/1.3
https://purl.org/becyt/ford/1
https://purl.org/becyt/ford/1.3
https://purl.org/becyt/ford/1
dc.description.none.fl_txt_mv Titanium dioxide thin films have been deposited on silicon (100) and 316L stainless steel substrates by cathodic arc deposition in oxygen atmosphere with a titanium cathode. The process was run at room temperature and at 300 °C, biasing the substrate with pulsed voltage (up to ?10 kV) and DC voltage (up to ?120 V). The crystalline structure was studied by Raman spectroscopy and X-ray diffraction. At room temperature, the films were obtained with an amorphous base with small isolated crystals of rutile and anatase. At 300 °C, with DC bias, samples grew crystalline with the presence of both anatase and rutile.
Fil: Franco Arias, Lina Maria. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; Argentina
Fil: Fazio, Mariana Andrea. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; Argentina
Fil: Halac, Emilia Beatriz. Comisión Nacional de Energía Atómica; Argentina
Fil: Vega, Daniel Alberto. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Bahía Blanca. Instituto de Física del Sur. Universidad Nacional del Sur. Departamento de Física. Instituto de Física del Sur; Argentina
Fil: Heredia, Eduardo Armando. Ministerio de Defensa. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa; Argentina
Fil: Kleiman, Ariel Javier. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; Argentina
Fil: Marquez, Adriana Beatriz. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Instituto de Física del Plasma. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Instituto de Física del Plasma; Argentina
description Titanium dioxide thin films have been deposited on silicon (100) and 316L stainless steel substrates by cathodic arc deposition in oxygen atmosphere with a titanium cathode. The process was run at room temperature and at 300 °C, biasing the substrate with pulsed voltage (up to ?10 kV) and DC voltage (up to ?120 V). The crystalline structure was studied by Raman spectroscopy and X-ray diffraction. At room temperature, the films were obtained with an amorphous base with small isolated crystals of rutile and anatase. At 300 °C, with DC bias, samples grew crystalline with the presence of both anatase and rutile.
publishDate 2015
dc.date.none.fl_str_mv 2015-09
dc.type.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
info:ar-repo/semantics/articulo
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.none.fl_str_mv http://hdl.handle.net/11336/57657
Franco Arias, Lina Maria; Fazio, Mariana Andrea; Halac, Emilia Beatriz; Vega, Daniel Alberto; Heredia, Eduardo Armando; et al.; Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage; Elsevier; Procedia materials science; 593; 9-2015; 39-45
2211-8128
CONICET Digital
CONICET
url http://hdl.handle.net/11336/57657
identifier_str_mv Franco Arias, Lina Maria; Fazio, Mariana Andrea; Halac, Emilia Beatriz; Vega, Daniel Alberto; Heredia, Eduardo Armando; et al.; Phase Transformation of TiO2 Thin Films in Function Bias Voltage; Elsevier; Procedia materials science; 593; 9-2015; 39-45
2211-8128
CONICET Digital
CONICET
dc.language.none.fl_str_mv eng
language eng
dc.relation.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/altIdentifier/url/http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2211812815000474
info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1016/j.mspro.2015.04.046
dc.rights.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
application/pdf
application/pdf
application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv Elsevier
publisher.none.fl_str_mv Elsevier
dc.source.none.fl_str_mv reponame:CONICET Digital (CONICET)
instname:Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
reponame_str CONICET Digital (CONICET)
collection CONICET Digital (CONICET)
instname_str Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
repository.name.fl_str_mv CONICET Digital (CONICET) - Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
repository.mail.fl_str_mv dasensio@conicet.gov.ar; lcarlino@conicet.gov.ar
_version_ 1844613743065956352
score 13.070432