Estudio de films delgados mesoporosos tratados con rayos X de alta intensidad
- Autores
- Gallo, C.; Zalduendo, M.; Angelomé, P.
- Año de publicación
- 2019
- Idioma
- español castellano
- Tipo de recurso
- documento de conferencia
- Estado
- versión publicada
- Descripción
- Objetivo: estudiar films delgados mesoporosos (FDM) consolidados a partir de rayos X de alta intensidad como método alternativo al uso de altas temperaturas. Justificación: los films delgados mesoporosos de TiO₂ y SiO₂ presentan alta superficie específica y arreglo de poros controlado, lo que resulta de gran interés para aplicaciones en áreas de microelectrónica, óptica avanzada y catálisis, entre otras. Existen diversos métodos de síntesis y procesamiento reproducibles que permiten tener control sobre el espesor y el tamaño y arreglo de poros. Tradicionalmente el método de obtención de FDM involucra un tratamiento con temperatura (mayor a 200°C) para la consolidación del material. Sin embargo, en los últimos años, se ha comenzado a estudiar la posibilidad de un método alternativo (tratamiento con rayos X de alta intensidad), lo que permite no sólo evitar el tratamiento térmico si no también poder realizar patrones utilizando litografía
Facultad de Ingeniería - Materia
-
Ingeniería en Materiales
films delgados mesoporosos
rayos X de alta intensidad - Nivel de accesibilidad
- acceso abierto
- Condiciones de uso
- http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
- Repositorio
- Institución
- Universidad Nacional de La Plata
- OAI Identificador
- oai:sedici.unlp.edu.ar:10915/177441
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Estudio de films delgados mesoporosos tratados con rayos X de alta intensidadGallo, C.Zalduendo, M.Angelomé, P.Ingeniería en Materialesfilms delgados mesoporososrayos X de alta intensidadObjetivo: estudiar films delgados mesoporosos (FDM) consolidados a partir de rayos X de alta intensidad como método alternativo al uso de altas temperaturas. Justificación: los films delgados mesoporosos de TiO₂ y SiO₂ presentan alta superficie específica y arreglo de poros controlado, lo que resulta de gran interés para aplicaciones en áreas de microelectrónica, óptica avanzada y catálisis, entre otras. Existen diversos métodos de síntesis y procesamiento reproducibles que permiten tener control sobre el espesor y el tamaño y arreglo de poros. Tradicionalmente el método de obtención de FDM involucra un tratamiento con temperatura (mayor a 200°C) para la consolidación del material. Sin embargo, en los últimos años, se ha comenzado a estudiar la posibilidad de un método alternativo (tratamiento con rayos X de alta intensidad), lo que permite no sólo evitar el tratamiento térmico si no también poder realizar patrones utilizando litografíaFacultad de Ingeniería2019-09info:eu-repo/semantics/conferenceObjectinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionObjeto de conferenciahttp://purl.org/coar/resource_type/c_5794info:ar-repo/semantics/documentoDeConferenciaapplication/pdfhttp://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/177441spainfo:eu-repo/semantics/altIdentifier/issn/2683-9946info:eu-repo/semantics/openAccesshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International (CC BY-NC-SA 4.0)reponame:SEDICI (UNLP)instname:Universidad Nacional de La Platainstacron:UNLP2025-10-22T17:28:48Zoai:sedici.unlp.edu.ar:10915/177441Institucionalhttp://sedici.unlp.edu.ar/Universidad públicaNo correspondehttp://sedici.unlp.edu.ar/oai/snrdalira@sedici.unlp.edu.arArgentinaNo correspondeNo correspondeNo correspondeopendoar:13292025-10-22 17:28:49.088SEDICI (UNLP) - Universidad Nacional de La Platafalse |
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Objetivo: estudiar films delgados mesoporosos (FDM) consolidados a partir de rayos X de alta intensidad como método alternativo al uso de altas temperaturas. Justificación: los films delgados mesoporosos de TiO₂ y SiO₂ presentan alta superficie específica y arreglo de poros controlado, lo que resulta de gran interés para aplicaciones en áreas de microelectrónica, óptica avanzada y catálisis, entre otras. Existen diversos métodos de síntesis y procesamiento reproducibles que permiten tener control sobre el espesor y el tamaño y arreglo de poros. Tradicionalmente el método de obtención de FDM involucra un tratamiento con temperatura (mayor a 200°C) para la consolidación del material. Sin embargo, en los últimos años, se ha comenzado a estudiar la posibilidad de un método alternativo (tratamiento con rayos X de alta intensidad), lo que permite no sólo evitar el tratamiento térmico si no también poder realizar patrones utilizando litografía |
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