Estudio de films delgados mesoporosos tratados con rayos X de alta intensidad

Autores
Gallo, C.; Zalduendo, M.; Angelomé, P.
Año de publicación
2019
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
documento de conferencia
Estado
versión publicada
Descripción
Objetivo: estudiar films delgados mesoporosos (FDM) consolidados a partir de rayos X de alta intensidad como método alternativo al uso de altas temperaturas. Justificación: los films delgados mesoporosos de TiO₂ y SiO₂ presentan alta superficie específica y arreglo de poros controlado, lo que resulta de gran interés para aplicaciones en áreas de microelectrónica, óptica avanzada y catálisis, entre otras. Existen diversos métodos de síntesis y procesamiento reproducibles que permiten tener control sobre el espesor y el tamaño y arreglo de poros. Tradicionalmente el método de obtención de FDM involucra un tratamiento con temperatura (mayor a 200°C) para la consolidación del material. Sin embargo, en los últimos años, se ha comenzado a estudiar la posibilidad de un método alternativo (tratamiento con rayos X de alta intensidad), lo que permite no sólo evitar el tratamiento térmico si no también poder realizar patrones utilizando litografía
Facultad de Ingeniería
Materia
Ingeniería en Materiales
films delgados mesoporosos
rayos X de alta intensidad
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
Repositorio
SEDICI (UNLP)
Institución
Universidad Nacional de La Plata
OAI Identificador
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