Lipovetzky, J., García Inza, M. A., Carbonetto, S. H., Carra, M. J., Redin, E. G., Sambuco Salomone, L. I., & Faigon, A. N. (2013). Field Oxide n-channel MOS Dosimeters Fabricated in CMOS Processes. Web
Citación estilo ChicagoLipovetzky, José, Mariano Andrés García Inza, Sebastián Horacio Carbonetto, Martin Javier Carra, Eduardo Gabriel Redin, Lucas Ignacio Sambuco Salomone, and Adrián Néstor Faigon. Field Oxide N-channel MOS Dosimeters Fabricated in CMOS Processes. 2013.
Cita MLALipovetzky, José, et al. Field Oxide N-channel MOS Dosimeters Fabricated in CMOS Processes. 2013.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.