Crecimiento y caracterización de películas delgadas de tio2 y ti1- xfexo2

Autores
Galvis, J.; Ramirez Jimenez, Helena; Montes, J.; Sanchez, L.; Beltran, J.; Barrero, C.; Morales, A.; Gomez, J.; Tirado Mejia, L.; Osorio, J.
Año de publicación
2009
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Titanium dioxide (TiO2) and Fe-doped titanium dioxide (Ti1-xFexO2) thin films were grown on silicon substrates using the magnetron sputtering Rf (13.56 MHz) technique. The relevant growth parameters for the samples (pressure, power, gas mixture ratio, distance between target-substrate, among others) were found. The plasma deposition environment for the ternary films was characterized by optical emission spectroscopy in order to verify and identify the present species which were iron and titanium. The TiO2 films, deposited on silicon substrates [100], showed an amorphous phase while the ternary films showed low crystallinity. After annealing at 800 °C crystalline phases appeared, rutile in binary films and mixed in ternary films.
Fil: Galvis, J.. Universidad de Antioquia; Colombia
Fil: Ramirez Jimenez, Helena. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
Fil: Montes, J.. Universidad de Antioquia; Colombia
Fil: Sanchez, L.. Universidad de Antioquia; Colombia
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Fil: Morales, A.. Universidad de Antioquia; Colombia
Fil: Gomez, J.. Universidad del Quindío; Colombia
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Fil: Osorio, J.. Universidad de Antioquia; Colombia
Materia
FILMS
SPUTTERING
SPINTRONIC
PHOTOCATALYST
MAGNETOELECTRONIC
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
Repositorio
CONICET Digital (CONICET)
Institución
Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
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