Optical quality mesoporous alumina thin films

Autores
Zelcer, Andrés; Saleh Medina, Leila María; Hoijemberg, Pablo Ariel; Fuertes, Maria Cecilia
Año de publicación
2019
Idioma
inglés
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
A robust method for the preparation of optical-quality mesoporous alumina thin films is presented, using evaporation induced self assembly of triblock copolymer surfactants. The use of lowly reactive aluminium chloride as a precursor and a tertiary alcohol as a novel chloride scavenger results in highly homogeneous and smooth films with consistent controllable thickness between 30 and 100 nm. The films show very low refractive index and high transparency from UV to NIR regions, providing a new building block for solution processing of devices requiring low-κ materials.
Fil: Zelcer, Andrés. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Parque Centenario. Centro de Investigaciones en Bionanociencias "Elizabeth Jares Erijman"; Argentina
Fil: Saleh Medina, Leila María. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Parque Centenario. Centro de Investigaciones en Bionanociencias "Elizabeth Jares Erijman"; Argentina
Fil: Hoijemberg, Pablo Ariel. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Parque Centenario. Centro de Investigaciones en Bionanociencias "Elizabeth Jares Erijman"; Argentina
Fil: Fuertes, Maria Cecilia. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Universidad Nacional de San Martín. Instituto Sabato; Argentina
Materia
MESOPOROUS FILMS
ALUMINA
LOW REFRACTIVE INDEX
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
Repositorio
CONICET Digital (CONICET)
Institución
Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
OAI Identificador
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Acceder
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description A robust method for the preparation of optical-quality mesoporous alumina thin films is presented, using evaporation induced self assembly of triblock copolymer surfactants. The use of lowly reactive aluminium chloride as a precursor and a tertiary alcohol as a novel chloride scavenger results in highly homogeneous and smooth films with consistent controllable thickness between 30 and 100 nm. The films show very low refractive index and high transparency from UV to NIR regions, providing a new building block for solution processing of devices requiring low-κ materials.
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