Micromaquinado con láseres sólidos de nano y femtosegundos. Comparación de resultados

Autores
Rava, David Sebastian; Ferrero, Hugo Eduardo; Fidalgo, Luis Enrique; Agüero, Mónica Beatriz; Hnilo, Alejandro Andrés; Kovalsky, Marcelo Gregorio
Año de publicación
2014
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
En este trabajo se presentan los resultados de la comparación del micromaquinado láser de obleas de silicio empleando la técnica de escritura directa (direct writing) con pulsos de nanosegundos generados por la técnica de Q-switch en Nd:YAG y pulsos de femtosegundos, provenientes del Ti:Zafiro mode lockeado. Se determinaron los efectos de la redeposición de escombros (debris) y se proponen técnicas para su control.
In this paper we present the comparison of direct writing silicon wafer using Q-switched pulses from a Nd:YAG laser and mode locking pulses from a Ti:Sapphire laser. We describe the debris effect in both cases and propose several techniques in order to minimize the effect.
Fil: Rava, David Sebastian. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Física; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina
Fil: Ferrero, Hugo Eduardo. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Física; Argentina
Fil: Fidalgo, Luis Enrique. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa. Ministerio de Defensa. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa. Centro de Investigación en Láseres y Aplicaciones; Argentina
Fil: Agüero, Mónica Beatriz. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa. Ministerio de Defensa. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa. Centro de Investigación en Láseres y Aplicaciones; Argentina
Fil: Hnilo, Alejandro Andrés. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa. Ministerio de Defensa. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa. Centro de Investigación en Láseres y Aplicaciones; Argentina
Fil: Kovalsky, Marcelo Gregorio. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa. Ministerio de Defensa. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa. Centro de Investigación en Láseres y Aplicaciones; Argentina
Materia
MICROMAQUINADO LÁSER
OBLEAS DE SILICIO
LASER DE ND:YAG
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc/2.5/ar/
Repositorio
CONICET Digital (CONICET)
Institución
Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
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In this paper we present the comparison of direct writing silicon wafer using Q-switched pulses from a Nd:YAG laser and mode locking pulses from a Ti:Sapphire laser. We describe the debris effect in both cases and propose several techniques in order to minimize the effect.
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Fil: Hnilo, Alejandro Andrés. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa. Ministerio de Defensa. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa; Argentina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones Científicas y Técnicas para la Defensa. Centro de Investigación en Láseres y Aplicaciones; Argentina
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description En este trabajo se presentan los resultados de la comparación del micromaquinado láser de obleas de silicio empleando la técnica de escritura directa (direct writing) con pulsos de nanosegundos generados por la técnica de Q-switch en Nd:YAG y pulsos de femtosegundos, provenientes del Ti:Zafiro mode lockeado. Se determinaron los efectos de la redeposición de escombros (debris) y se proponen técnicas para su control.
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