Micromaquinado con láseres sólidos de nano y femtosegundos : comparación de resultados

Autores
Rava, D.; Ferrero, Hugo Eduardo; Fidalgo, Luis Enrique; Agüero, Mónica Beatriz; Hnilo, Alejandro Andrés; Kovalsky, Marcelo Gregorio
Año de publicación
2014
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
En este trabajo se presentan los resultados de la comparación del micromaquinado láser de obleas de silicio empleando la técnica de escritura directa (direct writing) con pulsos de nanosegundos generados por la técnica de Q-switch en Nd:YAG y pulsos de femtosegundos, provenientes del Ti:Zafiro mode lockeado. Se determinaron los efectos de la redeposición de escombros (debris) y se proponen técnicas para su control
In this paper we present the comparison of direct writing silicon wafer using Q-switched pulses from a Nd:YAG laser and mode locking pulses from a Ti:Sapphire laser. We describe the debris effect in both cases and propose several techniques in order to minimize the effect
Fil: Rava, D.. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA-FCEyN). Departamento de Física. Buenos Aires. Argentina
Fil: Ferrero, Hugo Eduardo. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA-FCEyN). Departamento de Física. Buenos Aires. Argentina
Fil: Fidalgo, Luis Enrique. Ministerio de Defensa - CONICET. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa. Departamento de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (UNIDEF- DEILAP). Buenos Aires. Argentina
Fil: Agüero, Mónica Beatriz. Ministerio de Defensa - CONICET. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa. Departamento de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (UNIDEF- DEILAP). Buenos Aires. Argentina
Fil: Hnilo, Alejandro Andrés. Ministerio de Defensa - CONICET. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa. Departamento de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (UNIDEF- DEILAP). Buenos Aires. Argentina
Fil: Kovalsky, Marcelo Gregorio. Ministerio de Defensa - CONICET. Unidad de Investigación y Desarrollo Estratégico para la Defensa. Departamento de Investigaciones en Láseres y Aplicaciones (UNIDEF- DEILAP). Buenos Aires. Argentina
Fuente
An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 2014;02(25):91-95
Materia
MICROMAQUINADO LASER
OBLEAS DE SILICIO
LASER DE ND:YAG
LASER MICROMACHINING
SILICON WAFER
ND:YAG LASER
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
Repositorio
Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
Institución
Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
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