Resistividad eléctrica de películas delgadas de oro obtenidas por ión-plating

Autores
Broitman, Esteban Daniel; Latorre, Daniel Fernando; Zimmerman, Rosa
Año de publicación
1991
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Es sabido que la resistividad eléctrica de las películas delgadas es mayor que la del material en volumen aún para espesores para los cuales el efecto Fuchs-Sondheimer es despreciable. En este caso, la mayor contribución a la resistividad se debe a impurezas y defectos cristalinos. Por eso es interesante hacer mediciones eléctricas en películas en que se pueda establecer la variación de la resistividad con la concentración de defectos, en especial bordes de grano. Esto puede lograrse comparando películas depositadas en vacío y por ion-plating porque esta última produce películas con tamaño de grano significativamente menor que las evaporadas en vacío. En este trabajo se presentan mediciones de la resistividad de películas continuas de oro obtenidas por ambas técnicas, antes y después de tratamientos técnicos. El tamaño de grano de las películas fue observado por microscopía electrónica. Se discuten los resultados en función de la contribución a la resistividad del scattering en los bordes de grano
Fil: Broitman, Esteban Daniel. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fil: Latorre, Daniel Fernando. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fil: Zimmerman, Rosa. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina
Fuente
An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 1991;01(03):357-360
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
Repositorio
Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
Institución
Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
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