Concari, S. B., Buitrago, R. H., Risso, G., Cutrera, M. E., & Battioni, M. R. (1999). Silicio microcristalino intrínseco depositado por PECVD de alta frecuencia a muy baja temperatura. Web
Citación estilo ChicagoConcari, Sonia Beatriz, Román Horacio Buitrago, Graciela Risso, Miriam Edith Cutrera, and Mario Rubén Battioni. Silicio Microcristalino Intrínseco Depositado Por PECVD De Alta Frecuencia a Muy Baja Temperatura. 1999.
Cita MLAConcari, Sonia Beatriz, et al. Silicio Microcristalino Intrínseco Depositado Por PECVD De Alta Frecuencia a Muy Baja Temperatura. 1999.
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