Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas

Autores
Toranzos, Víctor José; Ortiz, Guillermo Pablo; Busso, Arturo Juan; Koropecki, Roberto Román
Año de publicación
2008
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Fil: Toranzos, Víctor José. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.
Fil: Ortiz, Guillermo Pablo. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.
Fil: Busso, Arturo Juan. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.
Fil: Koropecki, Roberto Román. Universidad Nacional del Litoral; Argentina.
Fil: Koropecki, Roberto Román. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina.
Presentamos una técnica de medición de reflectancia en tiempo real para analizar, en el transcurso del anodi- zado electroquímico de Silicio, el crecimiento de una Película de Silicio Poroso (PSP). Empleando además la determinación independiente del espectro de reflectancia de la PSP seca, logramos correlacionar la porosidad y el espesor de la película con la densidad de corriente del anodizado. Esta información es útil para diseñar espejos dieléctricos con una sintonización óptima de su banda de reflexión.
We present a technique of measurement of reflectance in real time to analyze, in the course of the elec- trochemical etching of Silicon, the growth of Silicon Porous Film (SPF). Using in addition the independent determination of the reflectance spectrum from the dry PSP, we manage to correlate the porosity and the thick- ness of the film with current density of anodization. This information is useful to design dielectric mirrors with an optimal tuning of its band of reflection.
Fuente
ANALES AFA, 2008, vol. 20, no. 1, p. 65-68.
Materia
Capaz múltiples nanoestructuradas
Espejos dieléctricos
Silicio poroso
Anodizado electroquímico
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/ar/
Repositorio
Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE)
Institución
Universidad Nacional del Nordeste
OAI Identificador
oai:repositorio.unne.edu.ar:123456789/60001
Acceder
id RIUNNE_da908526c4cc03638639b29d85608883
oai_identifier_str oai:repositorio.unne.edu.ar:123456789/60001
network_acronym_str RIUNNE
repository_id_str 4871
network_name_str Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE)
spelling Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradasToranzos, Víctor JoséOrtiz, Guillermo PabloBusso, Arturo JuanKoropecki, Roberto RománCapaz múltiples nanoestructuradasEspejos dieléctricosSilicio porosoAnodizado electroquímicoFil: Toranzos, Víctor José. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.Fil: Ortiz, Guillermo Pablo. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.Fil: Busso, Arturo Juan. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.Fil: Koropecki, Roberto Román. Universidad Nacional del Litoral; Argentina.Fil: Koropecki, Roberto Román. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina.Presentamos una técnica de medición de reflectancia en tiempo real para analizar, en el transcurso del anodi- zado electroquímico de Silicio, el crecimiento de una Película de Silicio Poroso (PSP). Empleando además la determinación independiente del espectro de reflectancia de la PSP seca, logramos correlacionar la porosidad y el espesor de la película con la densidad de corriente del anodizado. Esta información es útil para diseñar espejos dieléctricos con una sintonización óptima de su banda de reflexión.We present a technique of measurement of reflectance in real time to analyze, in the course of the elec- trochemical etching of Silicon, the growth of Silicon Porous Film (SPF). Using in addition the independent determination of the reflectance spectrum from the dry PSP, we manage to correlate the porosity and the thick- ness of the film with current density of anodization. This information is useful to design dielectric mirrors with an optimal tuning of its band of reflection.Asociación Física Argentina2008info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_6501info:ar-repo/semantics/articuloapplication/pdfp. 65-68application/pdfToranzos, Víctor José, et al., 2008. Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas. ANALES AFA. La Plata: Asociación Física Argentina, vol. 20, no. 1, p. 65-68. E-ISSN 1850-1168.0327-358Xhttp://repositorio.unne.edu.ar/handle/123456789/60001ANALES AFA, 2008, vol. 20, no. 1, p. 65-68.reponame:Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE)instname:Universidad Nacional del Nordestespahttps://anales.fisica.org.ar/index.php/analesafa/article/view/98/124info:eu-repo/semantics/openAccesshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/ar/Atribución-NoComercial-SinDerivadas 2.5 Argentina2026-02-26T14:06:02Zoai:repositorio.unne.edu.ar:123456789/60001instacron:UNNEInstitucionalhttp://repositorio.unne.edu.ar/Universidad públicaNo correspondehttp://repositorio.unne.edu.ar/oaiososa@bib.unne.edu.ar;sergio.alegria@unne.edu.arArgentinaNo correspondeNo correspondeNo correspondeopendoar:48712026-02-26 14:06:02.875Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE) - Universidad Nacional del Nordestefalse
dc.title.none.fl_str_mv Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
spellingShingle Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
Toranzos, Víctor José
Capaz múltiples nanoestructuradas
Espejos dieléctricos
Silicio poroso
Anodizado electroquímico
title_short Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title_full Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title_fullStr Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title_full_unstemmed Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
title_sort Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas
dc.creator.none.fl_str_mv Toranzos, Víctor José
Ortiz, Guillermo Pablo
Busso, Arturo Juan
Koropecki, Roberto Román
author Toranzos, Víctor José
author_facet Toranzos, Víctor José
Ortiz, Guillermo Pablo
Busso, Arturo Juan
Koropecki, Roberto Román
author_role author
author2 Ortiz, Guillermo Pablo
Busso, Arturo Juan
Koropecki, Roberto Román
author2_role author
author
author
dc.subject.none.fl_str_mv Capaz múltiples nanoestructuradas
Espejos dieléctricos
Silicio poroso
Anodizado electroquímico
topic Capaz múltiples nanoestructuradas
Espejos dieléctricos
Silicio poroso
Anodizado electroquímico
dc.description.none.fl_txt_mv Fil: Toranzos, Víctor José. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.
Fil: Ortiz, Guillermo Pablo. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.
Fil: Busso, Arturo Juan. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.
Fil: Koropecki, Roberto Román. Universidad Nacional del Litoral; Argentina.
Fil: Koropecki, Roberto Román. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina.
Presentamos una técnica de medición de reflectancia en tiempo real para analizar, en el transcurso del anodi- zado electroquímico de Silicio, el crecimiento de una Película de Silicio Poroso (PSP). Empleando además la determinación independiente del espectro de reflectancia de la PSP seca, logramos correlacionar la porosidad y el espesor de la película con la densidad de corriente del anodizado. Esta información es útil para diseñar espejos dieléctricos con una sintonización óptima de su banda de reflexión.
We present a technique of measurement of reflectance in real time to analyze, in the course of the elec- trochemical etching of Silicon, the growth of Silicon Porous Film (SPF). Using in addition the independent determination of the reflectance spectrum from the dry PSP, we manage to correlate the porosity and the thick- ness of the film with current density of anodization. This information is useful to design dielectric mirrors with an optimal tuning of its band of reflection.
description Fil: Toranzos, Víctor José. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales y Agrimensura; Argentina.
publishDate 2008
dc.date.none.fl_str_mv 2008
dc.type.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
info:ar-repo/semantics/articulo
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.none.fl_str_mv Toranzos, Víctor José, et al., 2008. Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas. ANALES AFA. La Plata: Asociación Física Argentina, vol. 20, no. 1, p. 65-68. E-ISSN 1850-1168.
0327-358X
http://repositorio.unne.edu.ar/handle/123456789/60001
identifier_str_mv Toranzos, Víctor José, et al., 2008. Propiedades ópticas in situ de sistemas de capas múltiples nanoestructuradas. ANALES AFA. La Plata: Asociación Física Argentina, vol. 20, no. 1, p. 65-68. E-ISSN 1850-1168.
0327-358X
url http://repositorio.unne.edu.ar/handle/123456789/60001
dc.language.none.fl_str_mv spa
language spa
dc.relation.none.fl_str_mv https://anales.fisica.org.ar/index.php/analesafa/article/view/98/124
dc.rights.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/ar/
Atribución-NoComercial-SinDerivadas 2.5 Argentina
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/ar/
Atribución-NoComercial-SinDerivadas 2.5 Argentina
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
p. 65-68
application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv Asociación Física Argentina
publisher.none.fl_str_mv Asociación Física Argentina
dc.source.none.fl_str_mv ANALES AFA, 2008, vol. 20, no. 1, p. 65-68.
reponame:Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE)
instname:Universidad Nacional del Nordeste
reponame_str Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE)
collection Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE)
instname_str Universidad Nacional del Nordeste
repository.name.fl_str_mv Repositorio Institucional de la Universidad Nacional del Nordeste (UNNE) - Universidad Nacional del Nordeste
repository.mail.fl_str_mv ososa@bib.unne.edu.ar;sergio.alegria@unne.edu.ar
_version_ 1858211247103672320
score 13.176822

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