Simulación de ataque químico en sólidos cristalinos mediante modelos atomísticos discretos

Autores
Torres, Juan Pablo
Año de publicación
2009
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
tesis de grado
Estado
versión aceptada
Colaborador/a o director/a de tesis
Aldao, Celso Manuel

Descripción
Este trabajo tiene como objetivo tratar un número de aspectos de la problemática de la evolución de la rugosidad en la superficie del silicio, tanto en los procesos de deposición como de ataque químico húmedo (etching), mediante modelos atomísticos discretos. Se hace énfasis especial en el estudio de las propiedades de Scaling de los modelos y en la obtención de los exponentes de Scaling. Para la simulación de los modelos se ha empleado la técnica de Monte Carlo. Finalmente, se analizaron las morfologías obtenidas en las simulaciones.
Fil: Torres, Juan Pablo. Universidad Nacional de Mar del Plata. Facultad de Ingeniería
Materia
Silicio
Ataque químico
Higiene y seguridad en el trabajo
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
Repositorio
Repositorio Institucional Facultad de Ingeniería - UNMDP
Institución
Universidad Nacional de Mar del Plata. Facultad de Ingeniería
OAI Identificador
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