Diffusion of implanted nitrogen in the Cu(0 0 1) surface

Autores
Cristina, Lucila Josefina; Gomez, Liliana Maria; Vidal, Ricardo Alberto; Ferron, Julio
Año de publicación
2010
Idioma
inglés
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Auger electron spectroscopy (AES) was used to study the thermally activated diffusion process of low energy N+ implanted on the Cu(0 0 1) surface, a proposed model system for self-assembled nanostructures. The nitrogen diffusion was characterized as a function of the substrate temperature and the N+ implantation energy. An experiment that combines a temperature evolution followed by an AES depth profiling was done to clarify the type of diffusion. A comparison of the experimental results with kinetic Monte Carlo simulations suggests a preferential diffusion of the nitrogen to the surface followed by nitride decomposition.
Fil: Cristina, Lucila Josefina. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
Fil: Gomez, Liliana Maria. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Rosario. Instituto de Física de Rosario. Universidad Nacional de Rosario. Instituto de Física de Rosario; Argentina
Fil: Vidal, Ricardo Alberto. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
Fil: Ferron, Julio. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Centro Científico Tecnológico Conicet - Santa Fe. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química. Universidad Nacional del Litoral. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química; Argentina
Materia
GROWTH
Auger electron spectroscopy
copper nitride
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar/
Repositorio
CONICET Digital (CONICET)
Institución
Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
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description Auger electron spectroscopy (AES) was used to study the thermally activated diffusion process of low energy N+ implanted on the Cu(0 0 1) surface, a proposed model system for self-assembled nanostructures. The nitrogen diffusion was characterized as a function of the substrate temperature and the N+ implantation energy. An experiment that combines a temperature evolution followed by an AES depth profiling was done to clarify the type of diffusion. A comparison of the experimental results with kinetic Monte Carlo simulations suggests a preferential diffusion of the nitrogen to the surface followed by nitride decomposition.
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