Plasma focus de mínima energía

Autores
Soto, Leopoldo; Pavez, Cristian Arturo; Moreno, José Alberto; Clausse, Alejandro; Barbaglia, Mario Oscar
Año de publicación
2005
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
artículo
Estado
versión publicada
Descripción
Hasta el momento, los equipos de radiación de plasma pulsante (Plasma Focus) han sido estudiados en un rango mayor a las decenas de Joules. En este trabajo se presenta un diseño de un pulsor cuya energía de trabajo es inferior al Joule. Los parámetros del sistema son 5nF, 5-10kV, 5-10kA, 60-250 mJ, 16 ns de tiempo a la máxima corriente. Se muestra evidencia de la producción de pinch en hidrógeno con 100mJ. La dinámica de la lámina ha sido estudiada usando un sistema de fotografía ultrarrápido (4ns de exposición)
To the present, Plasma Focus devices were studied operating over the range of tens of Joules. In this article, a Plasma Focus device designed for operations below 1 Joule is presented. The main parameters of the device are: 5nF, 5-10kV, 5-10kA, 60-250 mJ, 16 ns first wave quarter. Evidence of a 100 mJ pinch production in Hydrogen is presented. The dynamics was studied using a ultra-fast photographic system (4ns exposition time)
Fil: Soto, Leopoldo. Comisión Chilena de Energía Nuclear. Santiago. Chile
Fil: Pavez, Cristian Arturo. Comisión Chilena de Energía Nuclear. Santiago. Chile
Fil: Moreno, José Alberto. Comisión Chilena de Energía Nuclear. Santiago. Chile
Fil: Clausse, Alejandro. Comisión Nacional de Energía Atómica (CONICET-CNEA)
Fil: Barbaglia, Mario Oscar. Universidad Nacional del Centro de la Provincia de Buenos Aires. Laboratorio de Plasmas Densos Magnetizados (UNCPBA-PLADEMA). Buenos Aires. Argentina
Fuente
An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 2005;01(17):148-150
Materia
PLASMA FOCUS
PINCH
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Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar
Repositorio
Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
Institución
Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
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