Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial

Autores
Mahmud, Z.; Gordillo, G.; Ventura D'Alkaine, C.
Año de publicación
2017
Idioma
español castellano
Tipo de recurso
informe técnico
Estado
versión enviada
Descripción
En este trabajo se han comparado las deposiciones voltamétricas y galvanostáticas 1, 2, 3 de cinc, en medio de cloruros a pH 4, en presencia y ausencia de tiourea (3 10-5M). La deposición de cinc en la industria se lleva a cabo en condiciones galvanostáticas, de ahí la importancia de su comprensión comparándola con la voltametría. En la deposición voltamétrica se han identificado cinco zonas de potencial en las que se distinguen procesos cuyo estudio es esencial para comprender el mecanismo de la electrodeposición en las condiciones de trabajo. A medida que se avanza hacia potenciales más negativos se destacan las zonas Z1, de nucleación Z2, electrodeposición Z3, activada y la de deposición masiva con control por transferencia de materia Z4 y Z5 de tendencia a la corriente límite. Se ha encontrado que la deposición galvanostática, permite trabajar en un valor de densidad de corriente j (en mAcm-2) en donde evoluciona el potencial hacia un valor que permanece constante, durante tiempos muy largos. La presencia de tiourea en el baño, permite que el potencial se mantenga estable durante largos tiempos y que para distintas Ig, el potencial varíe poco.
Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial. Procesos Superficiales; Argentina.
Fil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina.
Fil: Ventura D'Alkaine, C. Universidade Federal de São Carlos; Brasil.
Materia
Electrodeposición
Galvanostática
Voltamétrica
Texturas
Nivel de accesibilidad
acceso abierto
Condiciones de uso
http://creativecommons.org/licenses/by/2.5/ar
Repositorio
Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
Institución
Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
OAI Identificador
technicalreport:technicalreport_n00030

id BDUBAFCEN_43c110f978cb834c4ea1a90e8d11ef60
oai_identifier_str technicalreport:technicalreport_n00030
network_acronym_str BDUBAFCEN
repository_id_str 1896
network_name_str Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
spelling Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrialMahmud, Z.Gordillo, G.Ventura D'Alkaine, C.ElectrodeposiciónGalvanostáticaVoltamétricaTexturasEn este trabajo se han comparado las deposiciones voltamétricas y galvanostáticas 1, 2, 3 de cinc, en medio de cloruros a pH 4, en presencia y ausencia de tiourea (3 10-5M). La deposición de cinc en la industria se lleva a cabo en condiciones galvanostáticas, de ahí la importancia de su comprensión comparándola con la voltametría. En la deposición voltamétrica se han identificado cinco zonas de potencial en las que se distinguen procesos cuyo estudio es esencial para comprender el mecanismo de la electrodeposición en las condiciones de trabajo. A medida que se avanza hacia potenciales más negativos se destacan las zonas Z1, de nucleación Z2, electrodeposición Z3, activada y la de deposición masiva con control por transferencia de materia Z4 y Z5 de tendencia a la corriente límite. Se ha encontrado que la deposición galvanostática, permite trabajar en un valor de densidad de corriente j (en mAcm-2) en donde evoluciona el potencial hacia un valor que permanece constante, durante tiempos muy largos. La presencia de tiourea en el baño, permite que el potencial se mantenga estable durante largos tiempos y que para distintas Ig, el potencial varíe poco.Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial. Procesos Superficiales; Argentina.Fil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina.Fil: Ventura D'Alkaine, C. Universidade Federal de São Carlos; Brasil.Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales2017-10info:eu-repo/semantics/reportinfo:eu-repo/semantics/submittedVersionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_18ghinfo:ar-repo/semantics/informeTecnicoapplication/pdfhttp://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00030spainfo:eu-repo/semantics/openAccesshttp://creativecommons.org/licenses/by/2.5/arreponame:Biblioteca Digital (UBA-FCEN)instname:Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturalesinstacron:UBA-FCEN2025-09-29T13:40:24Ztechnicalreport:technicalreport_n00030Institucionalhttps://digital.bl.fcen.uba.ar/Universidad públicaNo correspondehttps://digital.bl.fcen.uba.ar/cgi-bin/oaiserver.cgiana@bl.fcen.uba.arArgentinaNo correspondeNo correspondeNo correspondeopendoar:18962025-09-29 13:40:24.964Biblioteca Digital (UBA-FCEN) - Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturalesfalse
dc.title.none.fl_str_mv Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial
title Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial
spellingShingle Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial
Mahmud, Z.
Electrodeposición
Galvanostática
Voltamétrica
Texturas
title_short Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial
title_full Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial
title_fullStr Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial
title_full_unstemmed Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial
title_sort Análisis de la electrodeposición de cinc en condiciones galvanostáticas de uso industrial
dc.creator.none.fl_str_mv Mahmud, Z.
Gordillo, G.
Ventura D'Alkaine, C.
author Mahmud, Z.
author_facet Mahmud, Z.
Gordillo, G.
Ventura D'Alkaine, C.
author_role author
author2 Gordillo, G.
Ventura D'Alkaine, C.
author2_role author
author
dc.subject.none.fl_str_mv Electrodeposición
Galvanostática
Voltamétrica
Texturas
topic Electrodeposición
Galvanostática
Voltamétrica
Texturas
dc.description.none.fl_txt_mv En este trabajo se han comparado las deposiciones voltamétricas y galvanostáticas 1, 2, 3 de cinc, en medio de cloruros a pH 4, en presencia y ausencia de tiourea (3 10-5M). La deposición de cinc en la industria se lleva a cabo en condiciones galvanostáticas, de ahí la importancia de su comprensión comparándola con la voltametría. En la deposición voltamétrica se han identificado cinco zonas de potencial en las que se distinguen procesos cuyo estudio es esencial para comprender el mecanismo de la electrodeposición en las condiciones de trabajo. A medida que se avanza hacia potenciales más negativos se destacan las zonas Z1, de nucleación Z2, electrodeposición Z3, activada y la de deposición masiva con control por transferencia de materia Z4 y Z5 de tendencia a la corriente límite. Se ha encontrado que la deposición galvanostática, permite trabajar en un valor de densidad de corriente j (en mAcm-2) en donde evoluciona el potencial hacia un valor que permanece constante, durante tiempos muy largos. La presencia de tiourea en el baño, permite que el potencial se mantenga estable durante largos tiempos y que para distintas Ig, el potencial varíe poco.
Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial. Procesos Superficiales; Argentina.
Fil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina.
Fil: Ventura D'Alkaine, C. Universidade Federal de São Carlos; Brasil.
description En este trabajo se han comparado las deposiciones voltamétricas y galvanostáticas 1, 2, 3 de cinc, en medio de cloruros a pH 4, en presencia y ausencia de tiourea (3 10-5M). La deposición de cinc en la industria se lleva a cabo en condiciones galvanostáticas, de ahí la importancia de su comprensión comparándola con la voltametría. En la deposición voltamétrica se han identificado cinco zonas de potencial en las que se distinguen procesos cuyo estudio es esencial para comprender el mecanismo de la electrodeposición en las condiciones de trabajo. A medida que se avanza hacia potenciales más negativos se destacan las zonas Z1, de nucleación Z2, electrodeposición Z3, activada y la de deposición masiva con control por transferencia de materia Z4 y Z5 de tendencia a la corriente límite. Se ha encontrado que la deposición galvanostática, permite trabajar en un valor de densidad de corriente j (en mAcm-2) en donde evoluciona el potencial hacia un valor que permanece constante, durante tiempos muy largos. La presencia de tiourea en el baño, permite que el potencial se mantenga estable durante largos tiempos y que para distintas Ig, el potencial varíe poco.
publishDate 2017
dc.date.none.fl_str_mv 2017-10
dc.type.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/report
info:eu-repo/semantics/submittedVersion
http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh
info:ar-repo/semantics/informeTecnico
format report
status_str submittedVersion
dc.identifier.none.fl_str_mv http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00030
url http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00030
dc.language.none.fl_str_mv spa
language spa
dc.rights.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
http://creativecommons.org/licenses/by/2.5/ar
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by/2.5/ar
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
publisher.none.fl_str_mv Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
instname:Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
instacron:UBA-FCEN
reponame_str Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
collection Biblioteca Digital (UBA-FCEN)
instname_str Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
instacron_str UBA-FCEN
institution UBA-FCEN
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital (UBA-FCEN) - Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
repository.mail.fl_str_mv ana@bl.fcen.uba.ar
_version_ 1844618683634155520
score 13.070432